企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 河南 商丘 商丘市 |
联系卖家: | 高经理 先生 |
手机号码: | 15939088815 |
公司官网: | jcl123.tz1288.com |
公司地址: | 河南省商丘市示范区中州办事处105国道与310国道交叉口北1公里路东东厂房3号门 |
靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下,金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度,即可确定靶电流密度.
降低Ar压强有利于提高镀膜速率,还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa,气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时,可以适当调节Ar压强,
点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面,热
缺点电子结构复杂,镀钛厂家服务电话,造价高化合物沉积时易分解,化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,金属表面镀钛厂家服务电话,一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物,膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅,镀钛厂家服务电话,影响薄膜质量
PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件:接通直流电源,气进行辉光放电为离子,真空镀钛厂家服务电话,离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。