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跟着节能减排的建议，人们对低辐射镀膜玻璃提出更高的要求。普通用于出产镀膜玻璃的镀膜段出产的产物已经不能满意人们提出的更高要求。大面积磁控溅射镀膜出产线包括很多构成部门，中岳钛金，个中焦点区域是镀膜高真空区的工艺部署，即镀膜段。现有技能中存在真空情况差、冷却结果低会严重影响制备的膜层质量。提供一种真空镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和真白手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下举办样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与真白手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全关闭建造，使整个薄膜发展和器件制备进程高度集成在一个完整的可控情况气氛的系统中，消除有机大面积电路制备进程中大气情况中不不变因素影响，保障了高机能、大面积有机光电器件和电路的制备。

真空中残存气体的稀薄程度

真空中残存气体的稀薄程度，就是真空程度的高低，即真空度。通常用压力表示单位（Pa）3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S）：当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上位置测得的平衡压力之比。

真空镀膜技术是一项新兴的技术

真空镀膜技术是一项新兴的技术，国际上直到60年代才开始将CVD(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000oC)下进行，且涂层类型单一，局限性很大，所以在开发初期还有待改进。离子镀膜的基本原理：在真空条件下，采用一定的等离子体离子化技术，使镀层原子部分离子化，同时产生大量高能中性原子，并在镀层表面施加负偏压。因此，在深度负偏压作用下，离子沉积在基体表面形成薄膜。

面涂:通常面涂的目的有以下两个方面

面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色，视客户要求，可选用9911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄，故烘干温度较低，约50-60oC，时间约1~2小时，用户可根据实际情况灵活把握，终应保证面涂层干燥。果镀件不需着色，则工序进行到此已经结束。