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镀钛不只能够满意人们关于零件的耐磨性、抗腐蚀性、少耗损等等功能的要求，更处理了零件资料经不住处于高温的环境中的问题，成功坚持了零件基本不会变形，硬度不会下降的状况。和传统的电镀不同的是，镀膜硬度较高，同时能够防止磨檫现象的发生，无脱落状况，高度防腐，所以真空镀钛不锈钢总是能够很广泛的被运用于很多的装修行业。

PVD法历早采用真空蒸镀技术

PVD是一种物理气相沉积法，它分为：真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常指的是真空离子镀膜；NCVM镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。真空镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面，PVD法历早采用真空蒸镀技术。

化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)

与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。