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因此，做好零件的前处理，是整个镀钛工序获得良好结果的先决条件。首先，必须保证除油和酸洗溶液的浓度和纯度，溶液中漂浮的油污要及时清理干净；其次，除锈液杂质达到一定量时，将会影响镀层质量，所以要定期更换。在镀钛生产中，由于各种原因，导致各种有害杂质进入镀钛液。杂质的种类繁多，大致有金属杂质、金属氧化物、非金属杂质和种种不溶性悬浮物、有机杂质等。各种镀液所含杂质的种类不尽相同，对同一种杂质的容忍程度也不相同。当一种或几种有害杂质积累到一定程度时，就会影响镀液性能和镀层质量，因此，不能等到杂质积累到造成危害时，才处理电镀液。

真空中残存气体的稀薄程度

真空中残存气体的稀薄程度，就是真空程度的高低，即真空度。通常用压力表示单位（Pa）3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S）：当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上位置测得的平衡压力之比。

基础的真空镀膜知识_新闻中心

真空镀膜-基础的真空镀膜知识真空镀膜是由真空镀膜机完成的，其工作流程及原理为：基片通过镀膜机的机械手的搬运，进入到镀膜机的真空腔体里，经过高压电离的离子在强电场及强磁场的作用下，产生高速运动，轰击靶材表面，激发出的金属离子附着在基片表面，形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：真空：用真空泵抽掉容器中的气体，使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。

PVD法历早采用真空蒸镀技术

PVD是一种物理气相沉积法，它分为：真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常指的是真空离子镀膜；NCVM镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。真空镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面，PVD法历早采用真空蒸镀技术。