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PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术)，这些方法统称物理气相沉积(PhysicalVaporDepoition)，简称为PVD。

电镀时，基体不锈钢屏风和不锈钢屏风镀层之间常因存在非不锈钢的夹层而不能形成连续的结晶结构，造成镀层起泡或脱落等结合不良的缺陷。因此，必须清除氧化皮、锈及氧化物等变质层。虽然加工层，镀层能够与之牢固地结合，因而无需用浸蚀法加以清除，一般只需进行酸洗处理。屏风材料存放于空气中，即使是很短时间，弥散在空气中的灰尘或油脂等微粒，也会粘附在表面上而形成污物层。污物主要分两大类，一类是无机污物，包括磨料颗粒、空气中的沙尘及不锈钢屏风粉末等。

在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件(CCD)也都甬道各种薄膜。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

Hunter工艺的步，如今所知，包括加热氯，焦炭和金红石的混合物，在非常高的温度下产生由（TiCl和二氧化碳组成的产物：TiO2（固体）+2Cl2（固体）+C（固体）→TiCl4+CO2（气体）第二步是在700-800摄氏度的耐高温钢外壳中用液态钠（Na）加热前一步骤中的。在这个称为“还原”的过程中，通过钠还原，得到99.9％纯金属钛以及盐（NaCl）