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发布时间:2021-11-17 01:19:00 作者:金常来
PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(PhysicalVaporDepoition),简称为PVD。
镀钛一般用于提高物件外貌耐磨性,好比,高速加工中心用的丝锥、钻头,都可以镀钛,以提高刀具的耐磨性,尚有活塞环外貌处理惩罚也有镀钛,同样是为了提高耐磨性。镀钛工艺有:真空镀膜和喷涂工艺等。真空镀膜包罗:磁控溅射法,电弧离子镀法等,中岳钛金,假如在镀膜进程中通入氮气可以形成氮化钛,镀层颜色金黄色,不然白色。该要优先镀层薄,一般在15个微米阁下,镀层灼烁不需要后续加工。喷涂的要优先有冷喷涂法,涂层很厚可以到达毫米量级,外貌粗拙需要后续加工。
因此,做好零件的前处理,是整个镀钛工序获得良好结果的先决条件。首先,必须保证除油和酸洗溶液的浓度和纯度,溶液中漂浮的油污要及时清理干净;其次,除锈液杂质达到一定量时,将会影响镀层质量,所以要定期更换。在镀钛生产中,由于各种原因,导致各种有害杂质进入镀钛液。杂质的种类繁多,大致有金属杂质、金属氧化物、非金属杂质和种种不溶性悬浮物、有机杂质等。各种镀液所含杂质的种类不尽相同,对同一种杂质的容忍程度也不相同。当一种或几种有害杂质积累到一定程度时,就会影响镀液性能和镀层质量,因此,不能等到杂质积累到造成危害时,才处理电镀液。
溅射镀膜的基本原理:充(Ar)气的真空环境中
溅射镀膜的基本原理:充(Ar)气的真空环境中,当(Ar)原子被电离,形成离子(Ar)时,离子在电场力的作用下,加速轰击用镀料制成的阴极靶,靶将溅射出来并沉积在工件表面。溅射膜中的入射离子,一般是通过辉光放电获得的,在l0-2Pa~10Pa范围内,因此溅射出的粒子在飞向基体时,容易与空气中的气体分子发生碰撞,使其运动方向随机,沉积的薄膜容易均匀。
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