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干涉条纹间距Δ0，条纹移动Δ，台阶高为t=(Δ/Δ0)*0.5λ，测出Δ0和Δ，即可，其中λ为单色光波长，如用白光，λ取530nm。称重法如果薄膜面积A，密度ρ和质量m可以被精测定的话，膜厚t就可以计算出来：d=m/Aρ。3石英晶体振荡器法广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的自动控制。

PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。初在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前PVD技术因工艺多样性，制程环保以及资源利用率高等特点在各个工业领域得以广泛应用。

第三：靶中现象正离子堆积：靶毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。阳极消失：靶*时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书和真空镀膜机上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。