阜阳表面镀钛厂家公司推荐 金常来质量放心可靠

氮碳化钛特性：复合涂层，具有多层膜层，比TiN硬度要高，摩擦系数较低，因含有碳原素，所以具有较低的内应力，较高的韧性，良好的润滑性，并具备极高的硬度、耐磨性，此涂层的工作温度在250度以内效果佳。氮铝化钛特性：具有极高的微硬度，热硬度，含铝元素，抗热性佳，性可达980度。较其它的镀钛加工涂层相比对耐温性高，可以在干式或高速条件下加工，使工件发挥佳性能。

真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

清除涂装室内的灰尘，建立清洁的车间，保持室内的高度清洁，是涂装工艺对环境的基本要求。在空气湿度高的区域，除了在电镀前仔细清洁真空室中的基板和零件外，还需要烘烤和脱气。为防止油带入真空室，应注意油扩散泵的回油情况，对加热功率大的扩散泵采取挡油措施。真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题镀铝时薄膜呈现孔洞

离子电流几乎与气体流量成正比

简单耐用。离子电流几乎与气体流量成正比，可以获得更大的离子电流。钨丝一般穿过出口，受到离子束的冲击会很快被腐蚀，特别是对于反应性气体，通常需要十几个小时才能更换。而且钨丝也会有一定的污染。解决钨丝的缺点。有寿命长的中和剂，如小型空心阴极源。霍尔离子源是应用的离子源。离子源，如Veece的MarkI和MarkII。适合大部分国产离子源。

离子镀膜中的离子源介绍

离子镀膜中的离子源介绍虽然离子源的类型有很多种，但目的无非是在线清洗，改善PVD真空镀膜表面的能量分布，调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度，同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层，厚度一般较大，膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。