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发布时间：2020-12-30 02:45:00 作者：金常来
将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。
（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。
（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化钛优异的应用效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
PVD涂层与传统化学电镀（水电镀）之间的异同之处在于，PVD涂层与传统化学电镀之间的相似点和差异相似，两者均属于表面处理类别，一种材料以某种方式被另一种表面覆盖。PVD涂层技术是当前主要的应用行业，PVD涂层技术的应用主要分为两类：装饰性涂层和工具涂层。电镀工具的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦因数，并增加工件的使用寿命，这方面主要用于各种切削工具，车刀（例如车刀，刨床，铣刀），钻头等，各种五金工具（例如螺丝刀，钳子等），各种模具和其他产品。 次数用完API KEY 超过次数限制
真空镀膜室壁上单分子层所吸附的分子数Ns与气相中分子数N的比值近似值。通常在常用的高真空系统中，其内表面上所吸附的单层分子数，远远超过气相中的分子数。因此，除了蒸发源在蒸镀过程中所释放的气体外，在密封和抽气系统性能均良好和清洁的真空系统中，若气压处于10-4Pa时，从真空室壁表面上解吸出来的气体分子就是真空系统内的主要气体来源。真空下室壁单分子层所吸附的分子数与气相分子数之比分子数与气相分子数A-镀膜室的内表面积，cm2;V-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3 次数用完API KEY 超过次数限制
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