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为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。 次数用完API KEY 超过次数限制

一、镀膜室极限压力的测定1、试验条件：（1）镀膜室内没有安放基材（空载状态）；（2）用来测量的真空计应和设备本身是配套的，且为有效期之内；（3）在抽气过程中，对镀膜室用设备配套的加热轰击装置进行除气；（4）真空测量规管应装于镀膜室壁上或zui靠近镀膜室的管道上；（5）对具有中搁板、上卷绕室和镀膜室的卷绕镀膜设备，应在两室同时抽气时对镀膜室的压力进行测试。2、测试方法：连续对镀膜室抽气24h这一时间段之间，测定出过程中的压力zui低值，则定为该设备的极限压力。如果压力变化值在0.5h内没有超过5％的波动，则取zui高测量表读数值作为极限压力值。 次数用完API KEY 超过次数限制

随着高科技及新兴工业发展，物理气相沉积技术出现了不少新的***的亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术，大型矩形长弧靶和溅射靶，非平衡磁控溅射靶，孪生靶技术，带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术，条状纤维织物卷绕镀层技术等，使用的镀层成套设备，向计算机全自动，大型化工业规模方向发展。第二节真空蒸镀(一)真空蒸镀原理(1)真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。 次数用完API KEY 超过次数限制