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真空镀膜室壁上单分子层所吸附的分子数Ns与气相中分子数N的比值近似值。通常在常用的高真空系统中，其内表面上所吸附的单层分子数，远远超过气相中的分子数。因此，除了蒸发源在蒸镀过程中所释放的气体外，在密封和抽气系统性能均良好和清洁的真空系统中，若气压处于10-4Pa时，从真空室壁表面上解吸出来的气体分子就是真空系统内的主要气体来源。真空下室壁单分子层所吸附的分子数与气相分子数之比分子数与气相分子数A-镀膜室的内表面积，cm2;V-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3 次数用完API KEY 超过次数限制

气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。(二)蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。zui常用的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源，特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。(三)真空蒸镀工艺实例以塑料金属化为例,真空蒸镀工艺包括：镀前处理、镀膜及后处理。真空蒸镀的基本工艺过程如下：(1)镀前处理，包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。 次数用完API KEY 超过次数限制

通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完API KEY 超过次数限制

压铸模具涂层的处理工艺。3.在锁具行业应用PVD镀膜技术在锁具行业基材上做表面改性装饰与耐用效果。水电镀无法做到的，真空技术几乎都可以实现各种颜色效果，环保工艺。而且锁具加工真空镀膜技术加工在整体显得高gui大气，让人类生活多姿多彩。4.在手机外壳/中框及配件手机外壳与及中框、摄像头保护圈，手机ka槽，音量按键，电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术，加强使用耐磨硬度和颜色多种选择。5.不锈钢餐具在真空PVD镀膜技术效果不锈钢餐具选用真空PVD镀膜技术无形增加产品很多买点和利润空间，餐具的选择品种也随之而多。 次数用完API KEY 超过次数限制