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氮化钛的结构及性能

TiN具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，面心立方的顶部是氮原子，钛原子位于面心立方的(1/2,0,0)空间位置。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色，超细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN的晶格常数为a=4.23 nm，TiC的晶格常数为a=4.238 nm，TiO的晶格常数为a=4.15 nm，这三种物质的晶格参数非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶体，氮化钛的理化性质由氮元素的含量来决定，当氮元素含量减少时，氮化钛的晶格参数反而增大，硬度也会有显微的增大，但氮化钛的抗震性随之降低。 次数用完API KEY 超过次数限制

因此，如果要防止蒸发粒子的大量散射，在真空蒸发镀膜设备中，真空镀膜室的起始真空度必须高于10-2Pa。由于残余气体在蒸镀过程中对膜层的影响很大，因此分析真空室内残余气体的来源，借以消除残余气体对薄膜质量的影响是重要的。真空室中残余气体分子的来源主要是真空镀膜室内表面上的解吸放气、蒸发源释放的气体、抽气系统的返流以及设备的漏气等原因所造成的。若镀膜设备的结构设计及制造良好，则真空抽气系统的返流及设备的漏气并不会造成严重的影响。 次数用完API KEY 超过次数限制

通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完API KEY 超过次数限制