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PVD的意思是“物理气相沉积”，这是指一种薄膜制备技术，该技术使用物理方法在真空条件下将材料沉积在要电镀的工件上。PVD涂层技术主要分为三类，真空蒸发涂层，真空溅射和真空离子涂层。对应于三类PVD技术，相应的真空镀膜设备还具有三种类型：真空蒸发镀膜机，真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。在过去的十年中，真空离子镀技术发展迅速，并且已成为当今zui***的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD涂层是指真空离子涂层，PVD镀膜机通常是指真空离子镀膜机。 次数用完API KEY 超过次数限制

因此，如果要防止蒸发粒子的大量散射，在真空蒸发镀膜设备中，真空镀膜室的起始真空度必须高于10-2Pa。由于残余气体在蒸镀过程中对膜层的影响很大，因此分析真空室内残余气体的来源，借以消除残余气体对薄膜质量的影响是重要的。真空室中残余气体分子的来源主要是真空镀膜室内表面上的解吸放气、蒸发源释放的气体、抽气系统的返流以及设备的漏气等原因所造成的。若镀膜设备的结构设计及制造良好，则真空抽气系统的返流及设备的漏气并不会造成严重的影响。 次数用完API KEY 超过次数限制

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术zui先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，塑胶的金属感，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。在真空状态下，加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。 次数用完API KEY 超过次数限制