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真空蒸镀工艺实例以塑料金属化为例,真空蒸镀工艺包括：镀前处理、镀膜及后处理。真空蒸镀的基本工艺过程如下：(1)镀前处理，包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静电，涂底漆等。(2)装炉，包括真空室清理及镀件挂具的清洗，蒸发源安装、调试、镀件褂卡。(3)抽真空，一般先粗抽至6．6Pa以上，更早打开扩散泵的前级维持真空泵，加热扩散泵，待预热足够后，打开高阀，用扩散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。 次数用完API KEY 超过次数限制

后处理，涂面漆。第三节溅射镀膜溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。近年发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。第四节电弧蒸发和电弧等离子体镀膜这里指的是PVD领域通常采用的冷阴极电弧蒸发，以固体镀料作为阴极，采用水冷、使冷阴极表面形成许多亮斑，即阴极弧斑。弧斑就是电弧在阴极附近的弧根。 次数用完API KEY 超过次数限制

通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完API KEY 超过次数限制

真空镀真空镀是电镀的一种，是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较gao档产品的功能性镀层·真空镀根据方法不同可分为蒸发镀和溅射镀，离子镀。蒸发镀，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。 次数用完API KEY 超过次数限制