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将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。

（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。

（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化钛优异的应用效果。 次数用完API KEY 超过次数限制

一、镀膜室极限压力的测定1、试验条件：（1）镀膜室内没有安放基材（空载状态）；（2）用来测量的真空计应和设备本身是配套的，且为有效期之内；（3）在抽气过程中，对镀膜室用设备配套的加热轰击装置进行除气；（4）真空测量规管应装于镀膜室壁上或zui靠近镀膜室的管道上；（5）对具有中搁板、上卷绕室和镀膜室的卷绕镀膜设备，应在两室同时抽气时对镀膜室的压力进行测试。2、测试方法：连续对镀膜室抽气24h这一时间段之间，测定出过程中的压力zui低值，则定为该设备的极限压力。如果压力变化值在0.5h内没有超过5％的波动，则取zui高测量表读数值作为极限压力值。 次数用完API KEY 超过次数限制

蒸发镀膜过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次数用完API KEY 超过次数限制

高精度真空镀膜装置，抽真空装置包括真空泵和真空压力传感器，真空压力传感器设置于中央真空室内；新型高精度真空镀膜装置提高了镀膜厚度控制精度，提高了产品加工工艺的重复性。真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。其被广泛应用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。真空蒸发镀膜是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到待镀膜固体上，即衬底或基片表面，从而凝结形成固态薄膜的方法。 次数用完API KEY 超过次数限制