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发布时间：2020-08-21 08:24:00 作者：金常来
感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
PVD技术的应用范围及优缺点
其应用范围是：
1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；
2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其优点是:
与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果***，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。
传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。
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