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跟着节能减排的建议，人们对低辐射镀膜玻璃提出更高的要求。普通用于出产镀膜玻璃的镀膜段出产的产物已经不能满意人们提出的更高要求。大面积磁控溅射镀膜出产线包括很多构成部门，中岳钛金，个中焦点区域是镀膜高真空区的工艺部署，即镀膜段。现有技能中存在真空情况差、冷却结果低会严重影响制备的膜层质量。提供一种真空镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和真白手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下举办样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与真白手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全关闭建造，使整个薄膜发展和器件制备进程高度集成在一个完整的可控情况气氛的系统中，消除有机大面积电路制备进程中大气情况中不不变因素影响，保障了高机能、大面积有机光电器件和电路的制备。

要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。好的设备弧源离化率高，形成的离子密度大，大颗粒少，镀出的膜层光滑度高，磨擦系数小，坚固不脱落，差的设备离化率低，镀出来的膜层粗糙没光泽，容易刮花脱落。

离子镀膜中的离子源介绍

离子镀膜中的离子源介绍虽然离子源的类型有很多种，但目的无非是在线清洗，改善PVD真空镀膜表面的能量分布，调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度，同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层，厚度一般较大，膜厚均匀性不高。可以使用离子电流较大、能级较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。