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基础的真空镀膜知识_新闻中心

真空镀膜-基础的真空镀膜知识真空镀膜是由真空镀膜机完成的，其工作流程及原理为：基片通过镀膜机的机械手的搬运，进入到镀膜机的真空腔体里，经过高压电离的离子在强电场及强磁场的作用下，产生高速运动，轰击靶材表面，激发出的金属离子附着在基片表面，形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：真空：用真空泵抽掉容器中的气体，使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。

PVD真空镀膜属性是怎样的?

PVD真空镀膜属性是怎样的？金属色均匀、一致、耐用的表面，在各种基本的空气和直射阳光的环境下都能长久保持良好的外观。色彩深沉，色彩明亮。节省了清洗和擦亮电镀黄铜或金属所需的时间和成本。用软布和玻璃清洁剂清洗PVD膜，清洗PVD膜层。不污染环境，避免化学*及VOC散发。具有生物学兼容性PVD真空镀膜特性

800-850摄氏度的温度下还原，得到钛：2Mg（液体）+TiCl4（气态）→2MgCl2（液体）+Ti（固体）需要进一步处理以从所得产物的混合物中提取钛。这可以通过真空蒸馏来实现。通过该过程获得的金属是高纯度和延展性的。这是目前全世界已建立的商业流程。钛的用途钛由于其高拉伸强度，低密度和轻重量，是用于航空，航天器和计划的金属的选。它与其他金属形成高强度合金的能力增强了其制造手术器械和假肢的可用性。由于其多功能性，钛的用途很多。