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PVD (物理) ：PVD(Physical Vapor Deition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

　　PVD是英文Physical Vapor Deition(物理气相沉积)的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

　　PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

卷绕式镀膜机30年来有了较大的发展，镀膜产品广泛用于装饰、包装、电容器等领域中，可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%～2%，纸含水量更大，一般为5%-7%，经涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍，其优点是：①可以蒸镀放气量较大的纸基材，并能保障镀膜质量。纸放出的大量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小，使放出来的气体不易进入蒸镀室中；②单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力，而双室结构中的蒸镀室气体量较小，可配小型抽气机组，使设备成本降低，并节约能源；③卷绕室与蒸镀室分别抽气，可缩短抽气时间。

不锈钢镀钛时的留意事项电镀时，基体不锈钢屏风和不锈钢屏风镀层之间常因存在非不锈钢的夹层而不能构成接连的结晶结构，构成镀层起泡或掉落等结合不良的缺点。因此，必须清除氧化皮、锈及氧化物等蜕变层。虽然加工层，镀层可以与之牢固地结合，因而无需用浸蚀法加以清除，一般只需进行酸洗处理。

不锈钢屏风材料存放于空气中，即使是很短时间，弥散在空气中的灰尘或油脂等微粒，也会粘附在外表上而构成污物层。污物可大体分两大类一类是无机污物，包含磨料颗粒、空气中的沙尘及不锈钢屏风粉末等。另一类是有机污物，包含动植物油脂、矿藏油脂、混合油脂、热粘附物及抛光膏残渣等。电镀时，即使是微量的污物层残留于外表，也会构成镀层结合不牢及剥落等缺点，所以污物层必须除净，这一工序称为除油。